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光觸媒催化劑高剪切分散機,我們的高剪切研磨分散設備就能夠很好的解決這一問(wèn)題,GMSD2000研磨分散機是三級高剪切研磨分散機可以先對物料進(jìn)行膠體研磨細化,然后再經(jīng)過(guò)分散盤(pán)對物料進(jìn)行剪聚分散。我們也可以根據物料的粗細程度提供不同的分散盤(pán)。
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光觸媒催化劑高剪切分散機,光觸媒高剪切研磨分散機,二氧化鈦高剪切研磨分散機,二氧化鈦研磨分散機,二氧化鈦剪切分散機,二氧化鈦納米級分散機
光觸媒是一種以納米級二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導體材料的總稱(chēng),它涂布于基材表面,在紫外光及可見(jiàn)光的作用下,產(chǎn)生強烈催化降解功能:能有效地降解空氣中有毒有害氣體;能有效殺滅多種細菌,并能將細菌或真菌釋放出的毒素分解及無(wú)害化處理;同時(shí)還具備除甲醛、除臭、抗污、凈化空氣等功能。
在所有的光觸媒材料中,納米二氧化鈦不僅具有很高的光催化活性且具有耐酸堿腐蝕、耐化學(xué)腐蝕、無(wú)毒等優(yōu)點(diǎn),價(jià)格也適中,具有較高的性?xún)r(jià)比,因而市場(chǎng)上大多使用納米二氧化鈦做為主要原材料。
納米級材料都有一個(gè)特性那就是容易出現團聚現象,納米二氧化鈦材料也不例外。團聚是指原生的納米材料顆粒在設備、分離、處理及存放的過(guò)程中相互連接、由多個(gè)顆粒形成的較大的顆粒團簇的現象。由于團聚顆粒小,表面粒子比例大,表面積大,處于能量不穩定狀態(tài),因而細微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團聚,形成團聚狀的二次顆粒。
我們的高剪切研磨分散設備就能夠很好的解決這一問(wèn)題,GMSD2000研磨分散機是三級高剪切研磨分散機可以先對物料進(jìn)行膠體研磨細化,然后再經(jīng)過(guò)分散盤(pán)對物料進(jìn)行剪聚分散。我們也可以根據物料的粗細程度提供不同的分散盤(pán)。
而且我們也有著(zhù)豐富的經(jīng)驗,幫助北京的一家公司從小試到中式再到搭建產(chǎn)線(xiàn)。所以說(shuō)我們的有把我做好客戶(hù)的要求。
型號 | 標準流量L/H | 輸出轉速Rpm | 標準線(xiàn)速度m/s | 馬達功率KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300-1,000 | 18,000 | 51 | 4 | DN25 | DN15 |
GMSD2000/5 | 1,000-1,500 | 13,500 | 51 | 11 | DN40 | DN32 |
GMSD2000/10 | 3,000 | 9,300 | 51 | 22 | DN50 | DN50 |
GMSD2000/20 | 8,000 | 3,600 | 51 | 37 | DN80 | DN65 |
GMSD2000/30 | 20,000 | 3,600 | 51 | 75 | DN150 | DN125 |
GMSD2000/50 | 40,000 | 2,500 | 51 | 160 | DN200 | DN150 |
GMSD2000高剪切研磨分散機參數表
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3 參數內的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。
4 本表的數據因技術(shù)改動(dòng),定制而不同,正確的參數以提供的實(shí)物為準。
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