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思峻高精密細胞破壁膠體磨

思峻高精密細胞破壁膠體磨,GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品??梢韵葘⒅参镂锪舷妊心?,研磨細化后再通過(guò)分散頭,進(jìn)行分散,這樣可以避免細胞細化后抱團現象,從而提高細胞的破壁率。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2022-09-29
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:1065
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產(chǎn)品詳情

一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞概述:

思峻高精密細胞破壁膠體磨,細胞破壁研磨分散機,高剪切研磨分散機,研磨分散機,細胞破碎機,細胞研磨機,高剪切膠體磨,專(zhuān)業(yè)膠體磨,膠體磨廠(chǎng)家,膠體磨價(jià)格

 二、細胞破壁的方式:

1.細胞破壁技術(shù)作為一種高科技手段,其應用十分廣泛。除病毒外,一切生物均由細胞構成,根據細胞內核結構分化程度的不同,細胞可以分為原核細胞和真核細胞兩大類(lèi)型。細胞壁(cellwall)是細胞的外層,在細胞膜的外面,細胞壁之厚薄常因組織、功能不同而異。植物、真菌、藻類(lèi)和原核生物都具有細胞壁,而動(dòng)物細胞不具有細胞壁。細胞壁本身結構疏松,外界可通過(guò)細胞壁進(jìn)入細胞中。

2.實(shí)驗插圖(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)

2.細胞破壁的方法很多,按照是否存在外加作用力,可分為機械法和非機械法。

分 類(lèi)

作 用 機 理

適 應 性

珠磨法

固體剪切作用

可達較高破碎率,可較大規模操作,大分子目的產(chǎn)物易失活,漿液分離困難

高壓勻漿法

液體剪切作用

可達較高破碎率,可大規模操作,不適合絲狀菌和革蘭氏陽(yáng)性菌

超聲破碎法

液體剪切作用

對酵母菌效果較差,破碎過(guò)程升溫劇烈,不適合大規模操作

X-press法

固體剪切作用

破碎率高,活性保留率高,對冷凍敏感目的產(chǎn)物不適合

酶溶法

酶分解作用

具有高度專(zhuān)一性,條件溫和,漿液易分離,溶酶價(jià)格高,通用性差

化學(xué)滲透法

改變細胞膜的滲透性

具一定選擇性,漿液易分離,但釋放率較低,通用性差

滲透壓法

滲透壓劇烈改變

破碎率較低,常與其他方法結合使用

凍結融化法

反復凍結-融化

破碎率較低,不適合對冷凍敏感目的產(chǎn)物

干燥法

改變細胞膜滲透性

條件變化劇烈,易引起大分子物質(zhì)失活

3.細胞破壁技術(shù)是一種超微粉劑加工技術(shù),對中藥臨床應用是一場(chǎng)革命,中藥材細胞破壁超微粉碎后的藥效釋出,藥性變化,治療效果方面有質(zhì)的飛躍變化。一般人體細胞大小為10-100μm,中藥超微粉的顆粒細度為3-5μm,中藥材(植物及動(dòng)物)的細胞尺度為10-100μm左右?,F常用的中藥丸劑粉末細度為150-180μm.中藥材的有效成份通常分布于細胞內與細胞間質(zhì),而以細胞內為主。中藥若采用常規方式粉碎,其單個(gè)粒子常由數個(gè)或數十個(gè)細胞所組成,細胞的破壁率極低。

三、上海SGN高剪切研磨分散機結構:

1.如果采用高剪切研磨分散機來(lái)粉碎,植物細胞的破壁率將大大提高。

GMD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)
2.GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品??梢韵葘⒅参镂锪舷妊心?,研磨細化后再通過(guò)分散頭,進(jìn)行分散,這樣可以避免細胞細化后抱團現象,從而提高細胞的破壁率。
3.*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。(齒列的深度:從開(kāi)始的2.7mm,到末端的0.7mm)

4.第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

四、GMD2000系列研磨分散機的特點(diǎn):(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)
1. 線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨
2.定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3. 定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4. 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5. 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

五、GMD2000系列研磨分散機的設備選型表

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線(xiàn)速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數據。

 

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

 

3 參數內的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。

 

4 本表的數據因技術(shù)改動(dòng),定制而不同,正確的參數以提供的實(shí)物為準

 

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