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氫氧化鈉高剪切研磨均質(zhì)分散機

氫氧化鈉高剪切研磨均質(zhì)分散機,采用優(yōu)化設計理念,將先J的技術(shù)與創(chuàng )X的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證.

  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2022-09-29
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:1696
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產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品名稱(chēng):氫氧化鈉高剪切研磨均質(zhì)分散機,透明質(zhì)酸粉末氫氧化鈉溶液交聯(lián)劑均勻混合研磨均質(zhì)分散機,硅凝膠膠體高速剪切膠體磨,凍膠研磨均質(zhì)分散機,凝膠粉碎機,解決粘度顆粒問(wèn)題,凝膠膠體磨,凝膠高速膠體磨,凝膠研磨機

 

高剪切膠體磨是將物料通過(guò)過(guò)膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時(shí)受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。


凝膠:亦稱(chēng)凍膠,是溶膠失去流動(dòng)性后,一種富含液體的半固態(tài)物質(zhì),其中液體含量有時(shí)可高達99.5%,固體粒子則呈連續的網(wǎng)絡(luò )體。它是指膠體顆?;蚋呔畚锓肿酉嗷ソ宦?lián),空間網(wǎng)絡(luò )狀結構不斷發(fā)展,zui終使得溶膠液逐步失去流動(dòng)性,在網(wǎng)狀結構的孔隙中充滿(mǎn)液體的非流動(dòng)半固態(tài)的分散體系,它是含有亞微米孔和聚合鏈的相互連接的堅實(shí)的網(wǎng)絡(luò )。

溶膠—凝膠技術(shù)是溶膠的凝膠化過(guò)程,即液體介質(zhì)中的基本單元粒子發(fā)展為三維網(wǎng)絡(luò )結構——凝膠的過(guò)程。凝膠與溶膠是兩種互有的狀態(tài)。乳膠冷卻后即可得到凝膠;加電解質(zhì)于懸膠后也可得到凝膠。凝膠可能具有觸變性:在振搖、超聲波或其他能產(chǎn)生內應力的特定作用下,凝膠能轉化為溶膠。溶膠向凝膠轉變過(guò)程主要是溶膠粒子聚集成鍵的聚合過(guò)程。上述作用一經(jīng)停止,則凝膠又恢復原狀,凝膠和溶膠也可共存,組成一個(gè)更為復雜的膠態(tài)體系。凝膠可分為易脹型(如明膠)和非易脹型(如硅膠)兩類(lèi);凝膠義分為彈性凝膠和脆性凝膠。

             

 

使用特殊的“膠體磨”將粗分散程度的懸浮液通過(guò)研磨而制成溶膠。實(shí)驗室常用“膠溶法”將固體分散而制備溶膠。以無(wú)機物作為源物質(zhì),在溶液中進(jìn)行化學(xué)反應而生成固體沉淀物,新生成的固體沉淀物在適當的條件下能重新分散而達到膠體分散程度的現象稱(chēng)為膠溶作用。再用某種方法促使膠體失去流動(dòng)性,變成彈性固體狀態(tài)的凝膠體。這種方法也可以稱(chēng)為“溶液-溶膠-凝膠”法。


    優(yōu)點(diǎn):是化學(xué)過(guò)程比較簡(jiǎn)單、原料成本低、燒結后無(wú)有機殘渣;

缺點(diǎn):是需要對膠體沉淀物長(cháng)時(shí)間連續清洗后才能制得凝膠,因而制備周期比較長(cháng)、可能會(huì )造成一定的原料損失。

 
目前,國內產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的研磨方式主要采取一步法的3000轉膠體磨,能基本滿(mǎn)足用戶(hù)的需要。由于我們行業(yè)的特點(diǎn),有相當多的中小企業(yè)分散設備十分落后,研磨時(shí)根本形成不了剪切力,從而無(wú)法發(fā)揮材料的性能。造成這種情況的主要原因① 尚未對分散的作用有正確的認識.許多生產(chǎn)商并未意識到分散的重要性;② 不知道對zui終產(chǎn)品的品質(zhì)如何評價(jià),

膠體磨的細化作用一般來(lái)說(shuō)要弱于均質(zhì)機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場(chǎng)合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細化。

GMSD2000系列是專(zhuān)門(mén)為膠體溶液生產(chǎn)所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GMSD2000的線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

     
三級錯齒結構的研磨轉子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉速可以達到18000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

【炭黑研磨分散機的結構】 
 

GMSD2000系列研磨分散機的結構:

研磨式分散機是由錐體磨(膠體磨),分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

D一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
            

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應用。



 上海SGN/思峻GMSD2000研磨分散機由電動(dòng)機通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉齒(或稱(chēng)為轉子)與相配的定齒(或稱(chēng)為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時(shí)受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

優(yōu)勢:

更穩定 采用優(yōu)化設計理念,將先J的技術(shù)與創(chuàng )X的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證.

新結構 通過(guò)梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,高線(xiàn)速度的吸料式葉輪提供很強的切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封,*上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問(wèn)題,安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國W先J的受控切割技術(shù),將纖維類(lèi)物料粉碎細度控制在設定范圍之內,滿(mǎn)足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

六、SGN/思峻二氧化硅(白炭黑)型號參數表:

 設備等級:化工級、衛生I級、衛生II級、無(wú)菌級 
  電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、 
  電源選擇:380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz 
  電機選配件:PTC 熱保護、降噪型 
  均質(zhì)機材質(zhì):SUS304、SUS316L、SUS316Ti 
  均質(zhì)機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē) 
  均質(zhì)機表面處理:拋光、耐磨處理 
  進(jìn)出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍 
  乳化機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器 
  分散均質(zhì)機高剪切分散均質(zhì)機,實(shí)驗室均質(zhì)機 
  應用于:奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農藥(除草劑、殺蟲(chóng)劑)。

GMSD2000 研磨分散機參數表

型號

GMSD2000/4

處理量:

0-400L/H(水)

功率

4kw

電機轉速

3000rpm

傳動(dòng)轉速

7300rpm(通過(guò)變頻可10500rpm)

材質(zhì)

與物料接觸均為316L不銹鋼

出口類(lèi)型

衛生級卡箍聯(lián)接

出口尺寸

DN15

進(jìn)口類(lèi)型

衛生級卡箍聯(lián)接

進(jìn)口尺寸

DN25

溫度

120℃

壓力

2.5bar

分散盤(pán)

約為55mm

整機重量

約為55kg

設備尺寸

450*350*750mm

 

氫氧化鈉高剪切研磨均質(zhì)分散機,透明質(zhì)酸粉末氫氧化鈉溶液交聯(lián)劑均勻混合研磨均質(zhì)分散機,硅凝膠膠體高速剪切膠體磨,凍膠研磨均質(zhì)分散機,凝膠粉碎機,解決粘度顆粒問(wèn)題

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