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石墨烯分散機氧化石墨烯削層設備 ,氧化石墨削層設備,氧化石墨分散機是研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
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石墨烯分散機產(chǎn)品簡(jiǎn)介
氧化石墨烯削層設備 ,氧化石墨削層設備,氧化石墨分散機是研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩定(stabilization)目的。
氧化石墨烯削層設備 ,氧化石墨削層設備,氧化石墨分散機 在做納米粉體分散或研磨時(shí),因為粉體尺度由大變小的過(guò)程中,范德華力及布朗運動(dòng)現象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
氧化石墨烯削層設備 ,氧化石墨削層設備,氧化石墨分散機 石墨烯 分散技術(shù)三要素
二、分散劑用量推薦
三、石墨烯 分散劑概述
四、超聲波分散設備使用建議及分散實(shí)例
五、研磨分散設備使用建議
石墨烯 分散技術(shù)三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設備
詳情:
分散設備
(1)超聲波分散設備:非常適合實(shí)驗室規模、低粘度介質(zhì)分散石墨烯,用于中、高粘度介質(zhì)時(shí)會(huì )受到限制
(2)研磨分散設備:適合大規模地分散石墨烯,中粘度介質(zhì)分散石墨烯
(3)采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法,可以高效、穩定地分散石墨烯
*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿(mǎn)足預期的應用。
GMD2000系列的線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
SGN石墨烯研磨設備采用高速研磨分散技術(shù),通過(guò)高
轉速(高可達14000rpm)帶動(dòng)高精密的磨頭定轉子(通常配GM+8SF,定轉子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設備的高線(xiàn)速度下形成湍流,在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導電石墨烯漿料。
石墨烯分散機,氧化石墨烯削層設備 ,氧化石墨削層設備,氧化石墨分散機
設備等級:化工級、衛生I級、衛生II級、無(wú)菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇:380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz
電機選配件:PTC 熱保護、降噪型
均質(zhì)機材質(zhì):SUS304、SUS316L、SUS316Ti
均質(zhì)機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
均質(zhì)機表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
乳化機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
分散均質(zhì)機高剪切分散均質(zhì)機,實(shí)驗室均質(zhì)機
應用于:奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農藥(除草劑、殺蟲(chóng)劑)。
SGN乳化均質(zhì)機的應用領(lǐng)域:
1. 精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹(shù)脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹(shù)脂乳化、炭墨分散
2. 石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化
3. 農藥化肥 、化肥、農藥乳化、農藥助劑、農藥中間體、藥乳油、殺蟲(chóng)劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復合肥、乳油濕性粉劑
4. 生物醫藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質(zhì)分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣
5. 日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發(fā)用品、牙膏、日用香精
6. 食品工業(yè)、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
7. 涂料油墨、內外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土
詳情:
GMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線(xiàn)速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到zui大允許量的10%
價(jià)格電議 孫:,公司有樣機可實(shí)驗!,歡迎廣大客戶(hù)來(lái)我司參觀(guān)指導!SGN工程師會(huì )根據客戶(hù)具體需求做適當的設備選型,以及根據流量做型號相應放大!
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