硫酸鋇溶液中試型研磨分散機，硫酸鋇溶液研磨分散機，硫酸鋇溶液膠體磨，硫酸鋇溶液研磨機，硫酸鋇研磨分散機

SGN硫酸鋇溶液中試型研磨分散機設計*，能夠延長(cháng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調整。

硫酸鋇，適用于上、下消化道造影。無(wú)臭、無(wú)味粉末，密度4.25-4.5，分解溫度＞1600℃。溶于熱濃硫酸，幾乎不溶于水、稀酸、醇。水懸浮溶液對石蕊試紙呈中性。
    

對于硫酸鋇溶液的生產(chǎn)，目前許多廠(chǎng)家采用國產(chǎn)膠體磨生產(chǎn)，由于國產(chǎn)膠體磨本身轉速較低為2930轉，生產(chǎn)出來(lái)的硫酸鋇溶液粒   徑一般在20μm左右，而且生產(chǎn)效果很低，需要研磨5-6小時(shí)。而使用SGN研磨分散機進(jìn)行處理，研磨兩遍，粒徑可以細化到5μm，效果好，效率高。

研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設備，效果遠遠好于單臺膠體磨處理的效果，研磨分散機是一臺目前型的研磨分散設備

硫酸鋇CMD2000系列研磨分散設備是SGN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇）

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時(shí)不停機運行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將SGN/思峻膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤(pán)?？筛鶕锪弦筮M(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇） SGN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前國產(chǎn)設備轉速的4-5倍。

的特點(diǎn)：

線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說(shuō)的濕磨

定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

設備其它參數:

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無(wú)菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器